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真空速凝爐
真空/氣氛保護(hù)感應(yīng)燒結(jié)爐
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CVI/CVD氣相沉積爐
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真空速凝爐（又名甩帶爐或甩片爐）是利用真空感應(yīng)熔煉的方法，在真空或惰性氣體狀態(tài)下把合金原料熔煉并澆鑄在旋轉(zhuǎn)的水冷輥上急速凝固后，再在水冷盤上
真空速凝爐II型（甩帶爐II型）是我公司在真空速凝爐I型的基礎(chǔ)上研發(fā)的技術(shù)性能更先進(jìn)、效率更高的新一代釹鐵硼磁材熔煉設(shè)備。它采用地坑收料罐式
真空/氫氣保護(hù)中頻感應(yīng)燒結(jié)爐是在真空環(huán)境或氫氣氣氛中通過(guò)感應(yīng)加熱，在粉末冶金工藝中對(duì)金屬進(jìn)行燒結(jié)的工業(yè)設(shè)備。加熱同時(shí)，氫氣還可對(duì)工件起到還原
AIC-30型真空熔煉爐主要用于特種金屬，如特鋼、銅合金、輕金屬等的熔煉與澆鑄。設(shè)備由中頻電源、雙層水冷爐體、真空機(jī)組、液壓翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、機(jī)械攪
CVI/CVD設(shè)備是C/C復(fù)合材料行業(yè)的主要設(shè)備，設(shè)備通過(guò)熱解碳源氣體，而使預(yù)制體獲得致密處理或涂層處理，其中快速氣相沉積設(shè)備（CVI），具
HTCF-2000型高溫碳化爐主要用于碳碳復(fù)合材料、碳碳/碳化硅復(fù)合材料、以及碳纖維保溫材料等的碳化處理。性能特點(diǎn)1.結(jié)構(gòu)形式：立式或臥式。
HTCF-2000型低溫碳化爐主要用于碳碳復(fù)合材料、碳碳/碳化硅復(fù)合材料、以及碳纖維保溫材料等的碳化處理。性能特點(diǎn)1.結(jié)構(gòu)形式：立式或臥式。
HAGF型高溫石墨化設(shè)備主要用于碳碳復(fù)合材料的高溫石墨化處理,也可用于合金、陶瓷的高溫?zé)Y(jié)。設(shè)備在惰性氣體保護(hù)下,加熱升溫、恒溫、降溫，高溫
該設(shè)備主要用于多晶硅前處理工序，在高溫真空環(huán)境下，對(duì)石墨電極、石墨基座、石墨卡瓣等進(jìn)行煅燒，使石墨部件經(jīng)酸洗、高溫烘干后仍殘余的水氣和氯化鹽
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